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핵심 응용 영역 및 하위 스케이너리오
금속 제련 및 주조
비철 금속 제련 : 구리, 알루미늄, 아연, 납 및 합금의 고온 제련, 특히 중소형 파운드리 및 실험실의 제련 요구 사항에 적합합니다.
귀금속의 정제 : 금,은, 백금 등의 정제 과정에서 고온을 견딜 수 있고 금속 오염을 피할 수 있습니다.
희토류 금속 가공 ing : 희토류 요소의 제련에서 (요구> 1600 ℃의 고온에서 우수한 성능을 보여줍니다 .
전도도 및 태양 광 산업
단결정성 실리콘 성장 : 치아 크랄 시스 공정에 사용되어 매우 높은 순도 요구 사항 (예 : 태양 세포 용 다결정 실리콘)을 갖는 용융 실리콘 액체를 유지하는 데 사용됩니다.
화합물 반도체 합성 : 예를 들어 갈륨 비소 (GAA), 실리콘 카바이드 (SIC) 제조, 금속 불순물에 의한 오염을 피합니다.
화학 공학 및 재료 합성
부식성 물질의 처리 : 강한 산, 강한 알칼리 또는 용융 염 (예 : 불소)에 내성, 전통적인 금속 용기를 대체합니다.
나노 물질의 합성 : 그래 핀, 탄소 나노 튜브 등 의 합성 조건을 제어하기위한 화학 증기 증착 (CVD)의 고온 반응 용기로서
새로운 에너지 및 특수 프로세스 special
리튬 배터리 재료 생산 battery : 합성 캐소드 재료 (예 : 3 원 재료 Linicomno₂)에 대한 전구체의 고온 처리.

또한 흑연 도가니는 흑연 분말과 으깬 흑연의 공급원 중 하나입니다.
고온 코팅 공정 process : 알루미나와 같은 용융 스프레이 물질로 채워진 플라즈마 분무.
뜨거운 제품
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